Untersuchung des tiefenaufgelösten strahlenschadenprofils in silizium nach ionenimplantation mit hilfe der mos-struktur : Diss. /
| Основен автор: | Ferretti, Rüdiger |
|---|---|
| Формат: | Книга |
| Език: | German |
| Публикувано: |
Beriln :
Technischen Universität Berlin,
1980.
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| Физически характеристики: |
125 p. : gr., sch. ; 21 cm. |
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| Библиография: |
Bibliogr. p. 117-122 |