Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Loeschen und Rotationsrelaxation von NH (A3 Pi) - Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser Diss. zur ... der Abt. fuer Chemie der Ruhr-Univ. Bochum
| Основен автор: | Hofzumahaus, Andreas |
|---|---|
| Формат: | Книга |
| Език: | German |
| Публикувано: |
Bochum
1984
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